相关连结：https://www.towardzeroexposure.org/
由美国Clean Electronics Production Network（CEPN）推动的「迈向零暴露（Toward Zero Exposure, TZE）」倡议，近期於2026年4月公布第三轮（Round 3）优先关注化学品（Priority Chemicals）清单，新增10项电子制造制程中常见之高风险化学品。加上2019年第一轮与2023年第二轮公告内容，目前三轮清单已累积达35种优先关注化学品，作为电子产业制程化学品限制清单（Manufacturing Restricted Substances List, MRSL）的重要参考依据……【更多资讯】
参考资料来源国际化学品法规电子短讯 12.115.5.26
参考资料来源国际化学品法规电子短讯 12.115.5.26